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納米氧化鉍高剪切分散機

納米氧化鉍高剪切分散機轉(zhuǎn)子速度可以達(dá)到44m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

  • 產(chǎn)品型號:XMD2000
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2023-11-13
  • 訪  問  量:1981
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詳細(xì)介紹

 納米氧化鉍高剪切分散機

三氧化二鉍納米粉體可以很好的分散于極性烴類溶劑中如 NMP (N-甲基吡咯烷酮PMA (丙二醇甲醚醋酸酯);非極性溶劑中如:礦物油;同時也可以分散于質(zhì)子性溶劑中如:alkoxyethers,分散時可達(dá)50%的濃度。

三氧化二鉍納米有機溶劑分散體,可確保應(yīng)用于各種有機溶劑體系,具有廣泛的適用性與易用性。
納米氧化鉍分散液圖片:
納米氧化鉍有什么應(yīng)用 
納米氧化鉍主要用于化工行業(yè)(如化學(xué)試劑、鉍鹽制造等)、玻璃行業(yè)(主要用于著色)、電子行業(yè)(電子陶瓷等)以及其他行業(yè)(如防火紙的制造、核反應(yīng)堆燃料等)。
其中,電子行業(yè)是氧化鉍應(yīng)用*廣的行業(yè),主要用在壓敏電阻、熱敏電阻、氧化鋅避雷器以及顯象管等領(lǐng)域。如果從材料來分,氧化鉍主要用于電子陶瓷粉體材料、電解質(zhì)材料、光電材料、高溫超導(dǎo)材料、催化劑等。電子陶瓷粉體材料電子陶瓷領(lǐng)域是氧化鉍應(yīng)用的一個成熟而又充滿活力的領(lǐng)域。氧化鉍作為電子陶瓷粉體材料中的重要添加劑,純度一般要求在99.5%以上。主要應(yīng)用對象有氧化鋅壓敏電阻、陶瓷電容、鐵氧體磁性材料三類。
納米氧化鉍分散用什么分散機 
納米氧化鉍要得到好的應(yīng)用需要兩個方面:一是提高生產(chǎn)工藝和設(shè)備,細(xì)度要求很高(D<50nm);二是在分散時需要分散均勻,防止納米顆粒抱團(tuán);上海依肯高剪切分散機XRS2000是國產(chǎn)分散機**的選擇。

研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

以下為型號表供參考:

型號

標(biāo)準(zhǔn)流量

L/H

輸出轉(zhuǎn)速

rpm

標(biāo)準(zhǔn)線速度

m/s

馬達(dá)功率

KW

進(jìn)口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

納米氧化鉍高剪切分散機

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