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納米碳酸鈣高剪切研磨分散機(jī)

納米碳酸鈣高剪切研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)子速度可以達(dá)到44m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專(zhuān)門(mén)研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級(jí)。剪切力更強(qiáng),乳液的粒徑分布更窄。

  • 產(chǎn)品型號(hào):XMD2000
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 更新時(shí)間:2023-11-13
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:1863
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詳細(xì)介紹

納米碳酸鈣高剪切研磨分散機(jī)

 

納米碳酸鈣研磨分散機(jī),納米碳酸鈣分散機(jī),納米碳酸鈣分散機(jī)是 透過(guò)膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

納米碳酸鈣分散機(jī)

 

納米粉體的團(tuán)聚是指原生的納米粉體顆粒在制備、分離、處理及存放過(guò)程中相互連接、由多個(gè)顆粒形成較大的顆粒團(tuán)簇的現(xiàn)象。由于團(tuán)聚顆粒粒度小,表面原子比例大,比表面積大,表面能大,處于能量不穩(wěn)定狀態(tài),因而細(xì)微的顆粒都趨向于聚集在一起,很容易團(tuán)聚,形成團(tuán)聚狀的二次顆粒,乃至三次顆粒,使粒子粒徑變大,在每個(gè)顆粒內(nèi)部有細(xì)小孔隙。

納米顆粒的團(tuán)聚一般分為兩種:軟團(tuán)聚和硬團(tuán)聚。對(duì)于軟團(tuán)聚機(jī)理,人們的看法比較一致,即,軟團(tuán)聚是由納米粉體表面分子或原子之間的范德華力和靜電引力所致,由于作用力較弱,可以通過(guò)一些化學(xué)作用或施加機(jī)械能的方式來(lái)消除。

納米碳酸鈣研磨分散機(jī),納米碳酸鈣分散機(jī),納米碳酸鈣分散機(jī)是化作用一般來(lái)說(shuō)要強(qiáng)于均質(zhì)機(jī),但它對(duì)物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)(如高粘度、大顆粒),所以在很多場(chǎng)合下,它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場(chǎng)合。

研磨分散機(jī)是由膠體磨分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強(qiáng)的流體湍流下。凹槽在每級(jí)口可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線(xiàn)式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

以下為型號(hào)表供參考:

型號(hào)

標(biāo)準(zhǔn)流量

L/H

輸出轉(zhuǎn)速

rpm

標(biāo)準(zhǔn)線(xiàn)速度

m/s

馬達(dá)功率

KW

進(jìn)口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

納米碳酸鈣高剪切研磨分散機(jī)

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