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隔膜分散改進式高速膠體磨

隔膜分散改進式高速膠體磨,研發(fā)出了二者相結合的研磨分散機,其磨頭結構采用錯齒形,自上而下齒槽深度由深到淺,定轉子部分間隙理論上能夠實現(xiàn)無限接近,再配合15000RPM的超高轉速,當顆粒進入磨頭腔體之后,瞬間即可被超微粉碎。

  • 產品型號:GMSD2000
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-08-04
  • 訪  問  量:212
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詳細介紹

隔膜分散改進式高速膠體磨,制作電池隔膜的分散工藝有以下要求:

- 均勻分散 :隔膜材料中的各種組分需要均勻分散,以確保隔膜的性能一致性和穩(wěn)定性。

- 控制孔徑和孔隙率 :隔膜的孔徑和孔隙率對電池性能有重要影響??讖叫枰鶆蚯疫m中,以保證鋰離子的順利通過和防止正負極短路。

- 保持材料的完整性 :在分散過程中,要避免材料的過度剪切和破壞,以保持隔膜材料的完整性和力學性能。

- 避免雜質引入 :分散工藝需要在潔凈的環(huán)境中進行,以防止雜質的引入,影響隔膜的性能和電池的安全性。

- 能耗和成本控制 :在保證隔膜性能的同時,還需要考慮分散工藝的能耗和成本,以實現(xiàn)經(jīng)濟效益。

隔膜分散改進式高速膠體磨


SID希德在傳統(tǒng)膠體磨與均質機的基礎上,研發(fā)出了二者相結合的研磨分散機,其磨頭結構采用錯齒形,自上而下齒槽深度由深到淺,定轉子部分間隙理論上能夠實現(xiàn)無限接近,再配合15000RPM的超高轉速,當顆粒進入磨頭腔體之后,瞬間即可被超微粉碎。從磨頭腔體出來后進入分散盤腔內,根據(jù)物料的特性及處理量的要求,提供2G,4M,6F,8SF不同規(guī)格的斜齒,對磨細的顆粒進行二次剪切和分散,防止顆粒抱團。

隔膜分散改進式高速膠體磨


高速研磨分散機, 線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓錐形,具有精細度遞升的三組鋸齒凸起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每都可以改變方向。第二組由轉定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度物質以及顆粒粒徑的需求。被加工的物料通過本省的重量或者外部的壓力(可有泵產生)加壓產生向下的螺旋沖擊力,通過高速研磨分散機定轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效的乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。整機采用佳的幾何機構的研磨定轉子,好的表面處理和優(yōu)質材料,可以滿足不同行業(yè)的多種需求。


模塊化設計的主要特點如下:

-直立式腔體結構,物料可以全部進入分散腔;

-良好的表面處理;

-符合CIP/SIP的清洗要求;

-低噪音;

-所有接觸物料的材質均為SS316;

-小試、中試到量產,平穩(wěn)過渡;

-僅需簡單的更換功能模塊,即可滿足分散-懸浮-均質-乳化的不同要求;

-衛(wèi)生設計,適合食品及制藥行業(yè);

-可提供特殊材質滿足磨損性及腐蝕性產品處理要求。



隔膜分散改進式高速膠體磨型號表:

研磨分散機

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW


GMSD2000/4

400

14,000

44

4

DN25/DN15

GMSD2000/5

1000

10,050

44

11

DN40/DN32

GMSD2000/10

3000

7,500

44

22

DN80/DN65

GMSD2000/20

8000

4,900

44

45

DN80/DN65

GMSD2000/30

20000

2,850

44

90

DN150/DN125

GMSD2000/50

60000

1,100

44

110

DN200/DN150

*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節(jié)到最大允許量的 10%。



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