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氧化鋁陶瓷隔膜漿料研磨機通過高剪切膠體磨與分散機協(xié)同工作:膠體磨利用定轉(zhuǎn)子高速相對運動(轉(zhuǎn)速可達數(shù)千轉(zhuǎn)/分鐘),產(chǎn)生強烈剪切、沖擊和研磨力,將漿料中團聚顆粒破碎細化;隨后分散機進一步打散微小顆粒,實現(xiàn)均勻分散,最終獲得粒徑達標、穩(wěn)定性好的陶瓷隔膜漿料。
產(chǎn)品型號:GMD2000
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
更新時間:2025-10-17
訪 問 量:132
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氧化鋁陶瓷隔膜漿料研磨機
氧化鋁陶瓷材料的特點:
1、氧化鋁陶瓷材料具有優(yōu)良的絕緣性,高頻損耗小,高頻絕緣性好的特點;氧化鋁陶瓷不燃、不銹,堅固不易損壞,有著其它有機材料和金屬材料不可比擬的優(yōu)良性質(zhì)。
2、氧化鋁陶瓷耐磨性,其硬度與剛玉相同,達到莫氏硬度九級,耐磨性與超硬合金相匹敵。
3、氧化鋁陶瓷的耐熱性,具有熱膨脹系數(shù)小,機械強度大,熱傳導(dǎo)率好等特點。
4、氧化鋁陶瓷具有耐化學(xué)腐蝕性和熔融金屬性等特點。
目前國內(nèi)大多廠家采用砂磨機進行研磨處理,采用進行砂磨機的話相對而言效果和效率會好一點;而如果是采用國產(chǎn)砂磨機的話,效率是十分低的,根據(jù)客戶描述氧化鋁漿料用國產(chǎn)砂磨機處理,勉強達到效果需要處理12小時,而且產(chǎn)量。SID改良型研磨機可以更高效的解決這種問題,保證粒徑,并提高效率。

是一款全新的研磨設(shè)備,是由高剪切膠體磨和高剪切分散機結(jié)合而成,先研磨后分散機,很好的解決了鋰電池陶瓷隔膜研磨分散的問題。
GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SID公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將三級變更為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

氧化鋁陶瓷隔膜漿料研磨機設(shè)備參數(shù)表:
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到最大允許量的 10%。 | |||||

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