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鈾氧化物研磨分散機(jī)是核能領(lǐng)域?qū)S迷O(shè)備,采用濕法研磨與閉環(huán)分散技術(shù)。可將鈾氧化物物料細(xì)化至微米級(jí),提升浸出效率,設(shè)備接觸部件采用耐輻照、耐強(qiáng)酸材質(zhì)。具備全封閉防泄漏設(shè)計(jì),符合核工業(yè)安全標(biāo)準(zhǔn),操作可控,適配核燃料制備、核廢料處理等場(chǎng)景,保障作業(yè)安全與物料利用率。
產(chǎn)品型號(hào):GMD2000
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間:2025-11-07
訪 問 量:28
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鈾氧化物研磨分散機(jī)
鈾的氧化物,從鈾礦物學(xué)和其直接應(yīng)用來看,都有著特別重要的意義,因?yàn)?,幾乎所有的鈾礦物中,鈾均以氧化物的形式存在,在工藝產(chǎn)品的二氧化鈾又是目前zui廣泛用于動(dòng)力反應(yīng)堆的核燃料。鈾-氧化體系是*復(fù)雜的二元體系之一。
鈾在不同情況下,可以生成U(Ⅲ)到U(Ⅵ)的各種鈾化合物,其中*穩(wěn)定的是U(Ⅵ)的化合物,其次是U(Ⅳ)的化合物。主要化合物有:氧化物、氟化物、碳化物、硅化物。
有兩種種轉(zhuǎn)化方法:濕法和干法。濕法是先用沉淀法使硝酸鈾酞生成三碳酸鉑酞餒、草酸鈾和過氧化鈾沉淀,然后再加熱分解成氧化物干法是采用流化床,把硝酸鈾酞直接脫水、脫硝轉(zhuǎn)化成三氧化鈾再用氫還原成二氧化鈾。還可采月J微波加熱直接脫硝轉(zhuǎn)化成三氧化鈾或八氧化三鈾。金屬鈾常用二氧化鈾氟化成四氟化鈾后,用金屬鈣還原而得。

SID技術(shù),獨(dú)特創(chuàng)意,融化理念。將SID高剪切膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良,在原來GM2000系列的基礎(chǔ)上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級(jí)模塊,加入了一級(jí)分散盤(均質(zhì)盤、乳化盤)。從而形成改良型的膠體磨,先研磨后分散(均質(zhì)、乳化),將物料的處理一步到底的完成,我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機(jī)"、“研磨均質(zhì)機(jī)"、“研磨乳化機(jī)"。
GMD2000研磨機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。
GMD2000研磨機(jī)有一定輸送能力,對(duì)高固含量有一定粘稠度物料,GM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機(jī)座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì),可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

鈾氧化物研磨分散機(jī)設(shè)備選型表:
研磨分散機(jī) | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到最大允許量的 10%。 | |||||
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